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口頭

低地球軌道上の原子状酸素による酸化膜形成とその特徴,3

横田 久美子*; 田川 雅人*; 吉越 章隆; 寺岡 有殿

no journal, , 

低地球軌道空間を模擬した環境でSi(001)表面に形成した酸化膜を放射光光電子分光法で分析した。その結果、低地球軌道空間を模擬した環境で形成したSi/SiO$$_{2}$$界面のサブオキサイド量が通常の高温酸化過程で形成したサブオキサイド量よりかなり少量であることが明らかになった。

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